Для измерений геометрических расстояний на поверхности нанотехнологических и конструкционных материалов действующего оборудования методами атомно-силовой микроскопии в атмосферных условиях в диапазоне линейных размеров 300 нм...100 мкм при атмосферных условиях. Для использования в условияхучебных учреждений, научных лабораторий и в условиях промышленных предприятий различного профиля.
